该晶圆加工产生厂是在华中各地,关键产生8英尺半导体行业晶圆,平均化工废水排出量约800吨。是因为产生环节中操作很多氢佛酸做好晶圆蚀刻,会导致化工废水内氟化物溶度高达独角兽200-300mg/L,远超中国排出规格(10mg/L一下)。
废渣部分及特征
废水处理方法关键源自两个关键环节:
晶圆蚀刻工艺技术
:含高溶度氟化物(HF)、氰化钠及几瓶高价属
无机化学设备磨光(CMP)焦化废水
:含nm级硅顆粒、设计络合剂
机械设备洁净废气
:含异丙醇、挥发酚等化合物物
清理加工环节
选取"物理积淀+水泥混凝土积淀+深度1过滤水"两级工作设计:
1级补救
:添加氯化钙和氢防氧化钙,达成氟化钙乳浊液,氟化物出掉率达85%
特殊加工
:加PAC(整合氯化铝)和PAM(聚丙烯塑料酰胺),除去氢氧化铁态感染物
一级处里
:能够多有机溶剂筛选器和活性氧炭过滤,喷水氟化物含量保持稳定在8mg/L接下来
根本机 有:pH半自动自动调节模式、斜管沉淀物池、板框压滤(活性污泥脱水烘干)。
从而实际效果
投资项目工作3年监控数据库现示:
氟化物大概浓度值:7.2mg/L(超过发展中国家规定)
COD清掉率:92%
废水含水量率:≤65%
年回收公司氟化钙副成品约150吨,完成资源性化采用